光刻胶是光致抗蚀剂。光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。...
[1]光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。目的 硅片制造中...
1、光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。2、光刻胶按其形成的图像分类有正性、负...
光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist,也翻译成resist、photores...
光刻胶是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用: a、将掩膜...
光刻胶是一种有机化合物,被紫外光曝光后在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。储存时间短保质期短暂,...
光刻机是制造芯片的核心装备之一。作用是将光线通过光学系统投射到晶圆表面,形成特定的图形。2、制造过程区别:光刻胶的制造过程相对简单,只要将光刻胶涂覆在晶...
1、光刻胶(photoresist,也作光致抗蚀剂,光阻),是一种由聚合物树脂(resin),光敏化合物(photoactive compound)和溶剂等混合而成的胶状液体,从成份上来讲...
光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一,是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫...
是光刻胶的关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。2、感光树脂 用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构...
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